净：电子工厂，尤其是微电子前工序和光电子前工序的洁净室对环境洁净度的要求越来越净。例如，12吋园片超大规模集成电路前工序光刻间的洁净度要求高达1级(0.1?m)也就是每立方英尺空气中≥0.1 ?m的粒子数不能超过1颗。相当于ISO 1级。特别重要的是它对环境空气提出了去除分子污染(SO2 , Nox , VOC ,NH3等)的要求。

　　精：电子工厂生产工艺对环境空气温、湿度的控制精度要求越来越精。还以上述微电子的光刻间为例：其温度精度为±0.1℃，相对湿度的精度为±3%。

　　纯：大规模集成电路前工序对生产用的高纯水、高纯气体以及高纯溶剂的纯度要求越来越纯。例如：对高纯水而言，不仅对其电阻率有要求，而且对高纯水中所含粒子、细菌、重金属以及其他元素的离子成份都有严格的要求，随着生产工艺的发展，对其纯度的要求也越来越高。可谓纯之又纯。

　　严：电子工业生产不仅对环境的洁净度，温、湿度有严格的要求，同时对环境的声(噪声)、光(照度)、电(静电)、磁(电磁场屏蔽)、振(微振)等都有严格的要求。尤其微电子生产，对环境的分子级污染提出了新的严格的要求。分子污染是指环境空气中要严格控制例如钠(Na)元素、碳(COx)元素、硫(SOx)元素、(NOx)元素等对半导体工艺有害的元素。因此在处理空气时还要用淋水(淋自来水、淋纯净水)来吸收室外空气中的有害分子成份和用化学过滤器来吸附新风中的有害分子成份。

 

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