工业生产（如光电、半导体、精密加工、肮空工业、制药、线路板生产级等）过程中，洁净室内存在许多潜在污染源，其中最大的威胁也是最易受到控制的是人员污染因素，人在洁净室活动中会产生大量的尘粒，包括：
　　1、活性尘粒：如细茵各酵母等；
　　2、非活性尘粒：如头发、皮屑等；
　　3、化学物质：如钠、钾、氯化物各镁等。
　　目前最为有效的方法就是通过洁净室工作室隔离清洗来捕捉并带走尘粒，使污染物不散布到洁净室环境中，以减少人员对洁净室环境的污染。无尘服系统的管理在无尘室的污染控制中占有重要的地位。通常情况下，洁净工作服每周洗涤一次，有些要求高的洁净环境需要每天清冼 ，甚到每次进入洁净室都要更换洗净过的洁净工作服。作为污染控制的重要手段，洁净服的清洁程度要求是非常高的，因为在普通的环境下清洗，会附着灰尘和细菌，以及受到水及洗净剂的二次污染，同时，在包装和运送过程也会增加附着灰尘及微生物的危险，所以洁净工作服清冼必须采用特珠的清洗工艺。

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